序言
緒言
第1章 光開關(guān)技術(shù)
1.1 光開關(guān)技術(shù)應(yīng)用
1.2 光開關(guān)技術(shù)基礎(chǔ)
1.3 光開關(guān)技術(shù)分類
1.4 基于無機(jī)電光晶體材料的光開關(guān)技術(shù)
1.4.1 電光晶體光開關(guān)
1.4.2 電光晶體光開關(guān)陣列
1.4.3 制備工藝
1.4.4 關(guān)鍵技術(shù)
1.4.5 基本開關(guān)單元的性能指標(biāo)
1.4.6 光開關(guān)陣列的設(shè)計(jì)關(guān)鍵
1.5 基于化合物半導(dǎo)體材料的光開關(guān)技術(shù)
1.6 基于光折變效應(yīng)的光開關(guān)技術(shù)
1.7 光開關(guān)設(shè)計(jì)理論與模擬方法
1.8 基于極化聚合物材料的波導(dǎo)電光開關(guān)技術(shù)
1.8.1 極化聚合物電光材料
1.8.2 極化聚合物電光材料的研究進(jìn)展
1.8.3 極化聚合物波導(dǎo)電光開關(guān)
1.9 熱控光機(jī)制下的光開關(guān)技術(shù)
1.9.1 SOI熱光開關(guān)
1.9.2 聚合物熱光開關(guān)
1.10 光開關(guān)的發(fā)展趨勢(shì)
第2章 光開關(guān)的波導(dǎo)結(jié)構(gòu)及模式分析
2.1 光波導(dǎo)材料的損耗表征
2.1.1 非金屬介質(zhì)材料的損耗表征
2.1.2 金屬介質(zhì)的復(fù)介電常數(shù)和光頻特性
2.2 光開關(guān)的波導(dǎo)結(jié)構(gòu)及參數(shù)
2.2.1 波導(dǎo)結(jié)構(gòu)
2.2.2 傳輸模式
2.2.3 分析方法
2.3 高折射率襯底上的非對(duì)稱五層平板波導(dǎo)
2.3.1 TM模式的特征方程
2.3.2 襯底的泄露損耗
2.4 介質(zhì)吸收型脊形波導(dǎo)
2.4.1 零級(jí)近似求實(shí)傳播常數(shù)
2.4.2 一級(jí)近似求振幅衰減系數(shù)
2.5 單金屬包層型非對(duì)稱六層平板波導(dǎo)
2.5.1 零級(jí)近似求解TM模傳播常數(shù)
2.5.2 一級(jí)近似求解TM模振幅衰減系數(shù)
2.5.3 TE模式的特性分析
2.6 雙金屬包層型非對(duì)稱七層平板波導(dǎo)
2.6.1 零級(jí)近似求解TM模傳播常數(shù)
2.6.2 一級(jí)近似求解TM模振幅衰減系數(shù)
2.6.3 TE模式的特性分析
2.7 金屬包層型脊形波導(dǎo)
2.7.1 單金屬包層型脊形波導(dǎo)的□模式分析
2.7.2 單金屬包層型脊形波導(dǎo)的□模式分析
2.7.3 雙金屬包層型脊形波導(dǎo)的□及□模式分析
2.8 脊形波導(dǎo)的等效分析
2.8.1 脊形波導(dǎo)的等效折射率分析法
2.8.2 脊形波導(dǎo)的近似等效光波電場(chǎng)分布
……
第3章 行波電極結(jié)構(gòu)及其分析理論
第4章 傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)極化聚合物電光開關(guān)
第5章 聚合物寬光譜電光開關(guān)
第6章 周期化波長選擇性光開關(guān)
第7章 行波電極高速電光開關(guān)及其時(shí)頻域分析
第8章 聚合物熱光開關(guān)
參考文獻(xiàn)